进了，理论上来说28纳米的光刻机，在双倍曝光的基础下，也能够光刻14纳米的芯片，但是次品率会大大增加，非常的得不偿失。

而14纳米光刻机，就目前来说是高端的技术。

双倍曝光的情况下，它可以光刻7纳米制程的芯片，甚至还可以四倍曝光……。

一旦14纳米光刻机的出现，这就完全不一样了。

可以说，整个芯片行业都会生翻天覆地的变化。

当前，水淼被光刻机的镜头难住了。

光刻机的光源要经过多次反射，每次反射都会增加误差，这就要求镜面的平整度极高，必须比光刻尺度还要低上1ooo倍。

目前能达到这种水平的只有汉斯国的蔡司。

但是现在，国内就是因为镜头不过关，始终卡在28纳米无法推进。

“或许可以在镜片镀膜机上着手……”

花了三个月，水淼看着放在工作台上大大小小的镜头，这些东西就是他这三个月的成果，通过设备检测它表面的光滑度现甚至过了母本光刻机，这让所有人对14纳米的光刻机成功有了更好的期待。

“试试吧。”

果然功夫不负有心人，最终的芯片达到了14纳米，一时间，众人都陷入癫狂，他们成功了！

到这个程度，华国甚至可以宣布，华国目前的芯片已经达到世界顶尖水平，但要达到自产自足，则需要将光刻机从研阶段推入生产化。

一台光刻机里面，有足足十几二十万的零部件，全靠复兴半导体一家企业来做的话，那得搞到猴年马月去。

放着华国这么完整的产业链不用，反倒自己去搓每个螺丝，不但浪费国内这么好资源和基础，更是闭门造车吃独食的表现。

而能用本国的产业链，来完成一台光刻机的所有零件制造，全球有且只有一个国家才有可能做到，那就是华国！

因此，水淼作为总负责人，向各位领导汇报工作的时候也详细说明了这个情况。

目前最重要的就是根据研团队给出的每个零件的数据，对全华国相关企业进行公开招标。

领导同意了，由水淼以光刻机研组总工程师的身份全权负责此事。

或者换一句话理解，这场公开招标就是一场全国工业大摸底！